スマートmegasonix™
従来のmegasonicsを上回っている
伝統的なメガソニック洗浄がその限界に達している。従来の洗浄方法はもはや装置の損傷を与えることなく、最小のキラー欠陥を除去することができます。これはなぜacmスマートmegasonix™より洗練された、単一ウエハ洗浄技術により完全を成し遂げるために―処理ステップの範囲の向こうで、既存と将来のプロセスノードで使用されることができるより多くの革新的なスイートは、装置のfeへの損害なしで包括的な洗浄atures。これらの登録商標のacm技術は劇的に肯定的な結果を達成するために制御、電力強度やメガソニック洗浄の分布の両方をすることができます。
樹液の先進のウエハ洗浄技術
acmの特許を交互に位相シフトの空間（saps™）技術を超音波トランスデューサとウエハの間のギャップにメガソニック波の位相の交流を採用しています。メガソニック洗浄システムの前世代で使用される定常超音波変換器とは異なり、樹液技術の動きや振動子傾斜ウエハを回転させながら、ウエハ上のすべての点全体に均一に届けられる超音波エネルギーを可能にして、ウェハに反りがある場合でも。微細なレベルでは、この超音波エネルギーをウエハ表面上のすべての点に着くことができ、ランダムな欠陥をより効果的に、従来の超音波やジェット噴霧プロセスにより完全に除去する。ランダム欠陥を除去するためのラジカルの超音波エネルギーによる希薄溶液中で生成されます。メガソニックエネルギーによって生じるキャビテーションの機械的な力が取り除かれるのをランダム欠陥の物質移動速度を高めると粒子の除去効率が向上する。これを達成すると樹液のすべてのより少ない時間で従来のメガソニック洗浄製品よりも、材料の損失なしに、ウエハ表面の荒加工なし。
樹液技術を実証し、その先進のウエハ洗浄能力としてノードを300 nmから45 nmにシュリンクとジェットスプレー技術が有効ではない。また、樹液装置の利用者はすでに彼らのacm拡張ツールのアプリケーションは、より多くのステップを製造工程におけるウエハの収量を高めるために洗浄を追加しています。
樹液のウエハ洗浄の応用
一、ポストcmp
一、ハードマスクを堆積後、フォトリソグラフィのパターニング・プロセスの一部として、ハードマスクをマスクを大目に見ることができない伝統的な先端チップの高アスペクト比の特徴をエッチに開発されている。樹液の洗浄技術の窒化を使用するハードマスクを含んでいる各々の堆積は、以下のステップを採用することができ、高いエッチング選択性と分解能を達成するために、酸化物、炭素材料。
一、相互接続および障壁金属：樹液技術からの残留物と他のランダムな欠陥の除去は、チップ製造プロセスの間の深いコンタクトまたはビアとの相互接続を改善することができます：
による一、ポストコンタクトエッチ：エッチングプロセスの高密度コンタクトおよびビアのパターンを作成するために一般的に用いられます。樹液技術はそれ以外の電気ショーツにつながる可能性があるランダム欠陥を除去するなどの各処理後のエッチングを適用することができる。
一、バリアメタル堆積前に銅配線を必要とする上での金属の拡散障壁の穴を介して作業漏れを開き中の電気マイグレーションを防止する。樹液技術残留酸化銅を除去するための障壁金属の蒸着前に適用できるが、バリアに十分に付着すると性能を損なうでしょう。
一、リサイクルされたテストウェーハと同様にインラインモニタリングなどの非製品ウェハを使用する目的のために健康を評価するために製造工程の限られた部分を介して通常プロセスウエハメーカー。これらのウエハ収益製品製造テストウエハとして知られている以外の目的のために使われ、メーカーの1つ以上のテストのためのテストウェーハを再利用しようとします。テストウエハをリサイクルして、樹液技術リサイクルされたウエハのランダム欠陥濃度を減らすために適用することができます。
樹液システム
現在の申し込みは、我々のacm樹液技術に基づくウエハ洗浄システムの2つのモデル：樹液iiと樹液v単一ウエハ、顧客仕様に構成されることができるシリアル処理ツール。適切で、彼らはウエハ表面からのランダムな欠陥を除去するのに用いられることができ、相互接続およびフロントエンドチップの製造において、テストウエハをリサイクルするための障壁金属の化学物質を希釈する。を組み合わせたacmの先進のメガソニック洗浄化学技術とこれらのツールは、従来のウエハ洗浄プロセスよりも高い有効性と効率性をもつランダム欠陥を除去する。彼らはまた、プロセス柔軟性を強化して、化学的消費を減らします。
ii
これは、我々の最も一般的に用いられる機械です。8枚葉洗浄室の合計で、このモデルは、フロントエンドの製造プロセスのすべての部分に適している
樹液v
この最大のacm樹液のツールです。12単一ウエハチャンバを掃除することをこのツールでホールドと複数の化学物質を使用することができ、スループットを増やすのを助けるとeff

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